Equipament de plasma vertical de substrat IC
L'equipament de plasma vertical de substrat IC es especificament concebut per netejar los substrats IC dins de processus d'embalatge IC tradicionals, en levant eficaçament de particulas, d'òlis e de contaminants de superfícia per provesir una superfícia de qualitat nauta- per las etapas d'embalatge seguentas. Lo sistèma pren en carga un foncionament completament automatizat amb un ecran tactil e un contraròtle PLC, permetent una gestion completa dels paramètres del procès, lo seguiment en temps real, la gestion de las recèptas e las notificacions d'alarma.
Descripcion de la foncion
L'equipament de plasma vertical de substrat IC es especificament concebut pernetejament dels substrats IC dins los procèsses d'embalatge IC tradicionals, en levant eficaçament las particulas, los òlis e los contaminants de superfícia per provesir una superfícia de nauta -qualitat per las etapas d'embalatge seguentas. Lo sistèma pren en cargafoncionament entièrament automatizatamb un ecran tactil e un contraròtle PLC, permetent una gestion completa dels paramètres del procès, lo seguiment en temps real-, la gestion de las recèptas e las notificacions d'alarma. Es estable, fisable, e aisit d'utilizar, en respondent a las exigéncias de nauta-precision e nauta-coeréncia dels processus d'embalatge IC.
Components principals (configuracion)
Valvulas solenoïdas de vuèg
Nauta-qualitatValvulas solenoides de la marca SVFassegurar una responsa rapida e un contraròtle estable del flux de gas de la cambra de vuèg.
Interruptors e reguladors de pression
Commutadors e reguladors de pression de nauta-precision de la marca SMCprovesir un contraròtle precís de la pression del vuèg e del gas, en mantenent una performància de procès coerenta.
Dessenh d'electròdes
Los electrodes son fabricats a partir d'unplaca d'alumini solida sola amb un centre crevat, e los canals de refregiment utilizande traucs prigonds-perforats combinats amb de deflectors de flux plaçats estrategicamentper guidar l'aiga de refregiment sus un camin definit. Aquò assegura una temperatura unifòrma de l'electròde, melhorant la consisténcia e la repetibilitat del tractament plasmatic.
Aplicacions principalas
L'equipament es subretot utilizat perNeteja de substrat IC, en contrarotlant precisament l'environament plasmatic per levar de particulas finas, de resina residuala, e de contaminants organics. Aumenta lo rendiment de l'embalatge IC e la coeréncia del produch. Lo sistèma es compatible amb de substrats de divèrsas talhas e materials, en respondent a las exigéncias estrictas de neteja e de precision de procès de l'industria de l'embalatge electronic.
Especificacions tecnicas
Nivèl de vuèg
Manten20–50 Papendent lo foncionament normal, en assegurant un environament de tractament de plasma estable.
Metòde de flux de gas
Utiliza undessenh d'entrada superior-, d'escapament inferior- brevetatamb de deflectors de flux per garantir un flux d'aire unifòrme dins la cambra e de resultats de tractament coerents.
Sistèma de refregiment
Los canals de refregiment dels electrodes son concebuts amb de traucs prigonds-perforats e de deflectors de flux per guidar l'aiga sus un camin prescrich, en assegurant una temperatura unifòrma de l'electròde e en melhorant l'estabilitat e la repetibilitat del tractament per plasma.
Valor de l'aplicacion
L'equipament de plasma vertical del substrat IC provesís unsolucion de neteja de superfícias fòrça eficienta, establa e intelligenta. En optimizant lo flux d'aire al vuèg e lo dessenh de refregiment dels electrodes, melhora significativament lo rendiment de l'embalatge IC e la consisténcia del produch tot en redusent los defauts de procès e los residus de produccion. Lo sistèma es aisit de foncionar e de manténer, eficient en energia-, e respectuós de l'environament, çò que ne fa un actiu clau pels fabricants d'embalatge IC que cèrcan a melhorar la productivitat, assegurar una qualitat coerenta e manténer l'estabilitat del procès.
Tags cauds: equipament de plasma vertical de substrat ic, China fabricants d'equipament de plasma vertical de substrat ic, fàbrica
Enviar l'Enquèsta
